泰斯特 1600℃真空/气氛管式炉CVD系统 CVD-TF16P50/60/80/100-高温炉系列-苏州科瑞斯仪器有限公司-电子天平|实验室仪器及专业的服务型供应商

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1600°℃真空/气氛管式炉CVD系统（CVD-TF），提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境，应用在半导体、纳米技术、等纤维等领域

此款CVD生长系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氨烧结等实验。

优点

炉程采用多晶莫来纤维真空吸附制成，温场均匀节能50%以上

自主研发的空气导流隔热技术保证箱内各部件的使用寿命及恒温效果

启动电炉，排温风机同时自动运行，试验结束后，推温风机将继续运行，直至炉体温度低于60℃℃，排温风机自行停止，有效保护了炉体表面

炉门开启自动断电、超温保护功能、漏电保护功能，以确保使用的安全性

安全性

过升报警、菜单锁定、过升防止、复电延时。

采用单向阀技术，使气体流量在可控压力范围内控制，保证安全。

采用混气罐装置，使气体可以在充分混合后导入工作室内，确保不会泄露。